半導体洗浄とは　不純物除去技術をわかりやすく解説

概要

半導体洗浄とは、ウエハー表面の汚れや微粒子を取り除く工程です。半導体製造では微細な回路を扱うためわずかな汚れでも問題になります。そのため洗浄工程は非常に重要です。半導体製造工程の各段階で繰り返し行われる基盤となる技術です。

ゴミや不純物を除去します。回路の欠陥を防ぎ、製品の歩留まりを高める重要な工程です。

CVD装置による成膜、EUV露光、ドライエッチングなど、前工程の各段階で洗浄が行われます。

微細化が進むほど洗浄技術が重要になります。洗浄装置の代表的なメーカーとしてSCREENや東京エレクトロンが知られています。

半導体製造ではナノメートル単位の回路を扱います。そのため小さなゴミでも回路の欠陥につながります。そこで重要になるのが洗浄工程です。

洗浄では化学薬品や超純水を使ってウエハーを洗います。これにより微粒子や化学物質を取り除きます。

また工程の途中でも洗浄が行われます。成膜、露光、エッチングなどの工程の後に洗浄することで次の工程を正確に行うことができます。半導体製造装置の中でも洗浄装置は使用頻度が最も高い装置の一つであり、1枚のウエハーが完成するまでに数十回以上の洗浄工程を経ることもあります。

最先端半導体では回路がさらに小さくなっています。TSMCなどの先端ファウンドリでも洗浄技術の精度は歩留まりを左右する重要な要素であり、洗浄技術の重要性はますます高まっています。

半導体洗浄はウエハーの汚れを取り除く工程です。微細な回路を守るため重要であり、多くの製造工程の間で繰り返し行われます。半導体の品質と歩留まりを支える重要な技術として、今後も需要が拡大すると考えられます。